1、碳酸鹽垢
結(jié)垢后表現(xiàn)：標(biāo)準(zhǔn)滲透水流量下降，或是脫鹽率下降。
原因：膜表面濃差極化增加。
2、鐵/錳
污染后表現(xiàn)：標(biāo)準(zhǔn)壓差升高（主要發(fā)生在裝置前端的膜元件），也可能引(起透水量下降。通常鈺和鐵會(huì)同時(shí)存在。
3、硫酸鹽
垢
若發(fā)生沉積，首先影響鹽濃度最高的系統(tǒng)最后面的膜元件，表現(xiàn)為二段壓差明顯升高。需要用專用清洗劑。
4、硅
顆粒硅：污堵膜元件水流通道，導(dǎo)致系統(tǒng)壓差升高。采用0.4%二氣胺對(duì)于溶解嚴(yán)重污染的硅垢是有效的。
膠硅：與顆粒硅相似。
溶解硅：形成硅酸鹽析出，應(yīng)采用二氣胺清洗。
5、懸浮物/有機(jī)物
污堵表現(xiàn)：透水量下降，
一段壓差明顯升高。若給水SDI大于4或濁度大于1，有機(jī)物污染的可能性較大。
6、微生物
污堵表現(xiàn)：標(biāo)準(zhǔn)壓差升高或標(biāo)準(zhǔn)透水量下降。可采用非氧化性殺菌劑加破進(jìn)行潔洗。
7、鐵細(xì)菌
污堵表現(xiàn)：標(biāo)準(zhǔn)壓差升高。可采用EDTA鈉鹽加械進(jìn)行清洗。
發(fā)生下列情況應(yīng)該清洗膜了
1、標(biāo)準(zhǔn)化后的設(shè)備產(chǎn)水量減少了10~15%；
2、標(biāo)準(zhǔn)化后的膜系統(tǒng)運(yùn)行壓力增加了15%；
3、標(biāo)準(zhǔn)化后的膜系統(tǒng)鹽透過率較初始正常值增加了10~15%；
4、運(yùn)行壓差較初始作業(yè)時(shí)增加了15%。
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